合作开发

丰富的薄膜工艺开发经验，ALD薄膜应用开发经验，以及完备的薄膜检测手段

ALD薄膜沉积

可代加工沉积包含但不限于：HfO2，ZrO2，Ta2O5，Nb2O5，Al2O3，TiO2，SiO2，TiN，TaN，Co，Cu，Ni等等，工艺包含热型，CCP等离子，ICP等离子工艺

真空设备及零配件

产品包含各类成品真空设备，定制化成套真空设备，真空相关零配件等