合作开发

丰富的薄膜工艺开发经验，ALD薄膜应用开发经验，以及完备的薄膜检测手段

ALD薄膜沉积

可代加工沉积包含但不限于：
氧化物：HfO₂，ZrO₂，Ta₂O₅，Nb₂O₅，Al₂O₃，TiO₂，SiO₂……
氮化物：TiN，TaN，MoN，WN……
金属单质薄膜：Co，Cu，Ni，Mo，W……

真空设备及零配件

产品包含各类成品真空设备，定制化成套真空设备，真空相关零配件等