ALD薄膜沉积

可代加工沉积包含但不限于:HfO2,ZrO2,Ta2O5,Nb2O5,Al2O3,TiO2,SiO2,TiN,TaN,Co,Cu,Ni等等,工艺包含热型,CCP等离子,ICP等离子工艺

真空设备及零配件

产品包含各类成品真空设备,定制化成套真空设备,真空相关零配件等

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