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ICP ALD(电感耦合原子层沉积设备)
ICP ALD(电感耦合原子层沉积设备)采用的是远程等离子的方法，与CCP ALD相比，等离子不直接作用于衬底，具有更温和的等离子能量，能够在提高反应活性的同时，不对衬底产生损伤。
详情介绍
加热温度：0-400℃
基片尺寸：4寸、6寸
等离子功率：0W-1000W
联系信息
电话：（+86）0551-68992851
邮箱： info@adchem-tech.com
网址： www.adchem-tech.com
地址： 合肥市高新区创新大道106号
明珠产业园1号楼C区4层
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