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Thermal ALD
Thermal ALD是一种使用热能作为反应能，在加热的衬底上连续脉冲通入气相前驱体源和反应物，并在衬底上发生反应生成薄膜的一种设备。由于原子层沉积的表面反应具有自限制性，在每个反应周期可以实现单原子层厚度，因此可以通过控制反应周期的数量获得膜层均匀、保形性好、台阶覆盖率高以及厚度控制的薄膜。
详情介绍
设备技术参数：
加热温度：0-400℃
基片尺寸：4寸、6寸、8寸
匹配的臭氧浓度：100g/Nm3-350g/Nm3
联系信息
电话：（+86）0551-68992851
邮箱： info@adchem-tech.com
网址： www.adchem-tech.com
地址： 合肥市高新区创新大道106号
明珠产业园1号楼C区4层
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